スパッタリング蒸着装置
- 2015.04.04
- 実験装置
スパッタリング蒸着では、イオン化したガスを蒸着源(ターゲット)に照射して、はじき出された原子・分子を別の場所においた基板上に堆積させる。
本研究室では、カーボンナノチューブ、カーボンナノコイル合成のための触媒やバッファー層の作製、TEM観察用基板導電コートなどに用いている。
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