| スパッタリング蒸着装置 GSE W-B112 イオン化したガスをターゲットに照射して、 はじき出された原子・分子を別の場所においた基板上に蒸着する装置。 本研究室では、カーボンナノチューブ、カーボンナノコイル合成のための、 触媒ナノ粒子や基板バッファー層の作製に用いている。 |
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| スパッタリング蒸着装置 GSE W-B112 イオン化したガスをターゲットに照射して、 はじき出された原子・分子を別の場所においた基板上に蒸着する装置。 本研究室では、カーボンナノチューブ、カーボンナノコイル合成のための、 触媒ナノ粒子や基板バッファー層の作製に用いている。 |