| CVD装置 M1-716 化学気相蒸着 [Chemical Vapor Deposition（CVD）] を行うための反応炉。 本研究室では、カーボンナノチューブや、 カーボンナノコイルを高効率で安定に合成できるよう設計されている。 CVD法では、触媒となる金属を基板上に散布した状態、 または反応管中に浮遊させた状態で、 水素やヘリウム雰囲気下で炭素源となるガスを加熱して熱分解させることにより炭素を 供給し、触媒を核としてナノチューブやナノコイルが成長する。 |
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| CVD装置 M1-716 化学気相蒸着 [Chemical Vapor Deposition（CVD）] を行うための反応炉。 本研究室では、カーボンナノチューブや、 カーボンナノコイルを高効率で安定に合成できるよう設計されている。 CVD法では、触媒となる金属を基板上に散布した状態、 または反応管中に浮遊させた状態で、 水素やヘリウム雰囲気下で炭素源となるガスを加熱して熱分解させることにより炭素を 供給し、触媒を核としてナノチューブやナノコイルが成長する。 |